TRANSMISSION ELECTRON-MICROSCOPE STUDY OF LASER ANNEALING OF ION DAMAGE IN SILICON AND GALLIUM-ARSENIDE

被引:3
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作者
NARAYAN, J
WHITE, CW
YOUNG, RT
机构
来源
关键词
D O I
10.1080/00337578008209205
中图分类号
TL [原子能技术]; O571 [原子核物理学];
学科分类号
0827 ; 082701 ;
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页码:167 / 170
页数:4
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