THERMAL OXIDATION OF SPUTTERED TANTALUM THIN FILMS BETWEEN 100 DEGREES C AND 525 DEGREES C

被引：54
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作者：
STEIDEL, CA
GERSTENBERG, D
机构：
来源：
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1969年 / 40卷 / 09期
关键词：
D O I：
10.1063/1.1658279
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
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