Comment on "Low-temperature homoepitaxial growth on high-miscut Si(111) mediated by thin overlayers of Pb" [Appl. Phys. Lett. 75, 2954, (1999)]

被引:1
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作者
Evans, PG [1 ]
Dubon, OD [1 ]
Chervinsky, JF [1 ]
Spaepen, F [1 ]
Golovchenko, JA [1 ]
机构
[1] Harvard Univ, Div Engn & Appl Sci, Cambridge, MA 02138 USA
关键词
D O I
10.1063/1.1318930
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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