Deposition of hydrogenated amporphous silicon by an inductively coupled glow discharge reactor with shield electrodes

被引:0
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作者
Yokota, Katsuhiro
Takada, Manabu
Ohno, Yoshikazu
Katayama, Saichi
机构
来源
Journal of Applied Physics | 1992年 / 72卷 / 03期
关键词
D O I
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