Heavily carbon doped base InP/InGaAs heterojunction bipolar transistors grown by two-step metalorganic chemical vapor deposition

被引:0
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作者
Ito, Hiroshi [1 ]
Yamahata, Shoji [1 ]
Shigekawa, Naoteru [1 ]
Kurishima, Kenji [1 ]
机构
[1] NTT LSI Lab, Kanagawa, Japan
关键词
D O I
暂无
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页码:6139 / 6144
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