BREAKDOWN MECHANISMS OF THERMALLY GROWN SILICON DIOXIDE AT HIGH ELECTRIC-FIELDS

被引:6
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作者
KLEIN, N [1 ]
机构
[1] TECHNION ISRAEL INST TECHNOL,DEPT ELECT ENGN,IL-32000 HAIFA,ISRAEL
关键词
D O I
10.1063/1.340045
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页数:3
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