ON THE DIFFUSION PROFILE OF BORON IN SILICON AT HIGH-CONCENTRATIONS

被引:0
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作者
GAISEANU, F
机构
来源
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH | 1983年 / 77卷 / 01期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
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页码:K59 / K61
页数:3
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