EFFECTS OF SUBSTRATE PREPARATION CONDITIONS ON GAAS OVAL DEFECTS GROWN BY MOLECULAR-BEAM EPITAXY

被引:16
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作者
FUJIWARA, K
NISHIKAWA, Y
TOKUDA, Y
NAKAYAMA, T
机构
关键词
D O I
10.1063/1.96748
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:701 / 703
页数:3
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