DETECTING SUB-MICRON PATTERN DEFECTS ON OPTICAL PHOTOMASKS USING AN ENHANCED EL-3 ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY TOOL

被引：0
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作者：
SIMPSON, RA
DAVIS, DE
机构：
来源：
PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS | 1982年 / 334卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ; 0803 ;
摘要：
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页数：8
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