BLANKET TUNGSTEN FILM FORMATION BY PHOTO-ENHANCED AND PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：0
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作者：
TSUZUKU, S
NISHITANI, E
NAKATANI, M
SHINTANI, A
机构：
[1] HITACHI LTD,PROD ENGN RES LAB,TOTSUKA KU,YOKOHAMA 244,JAPAN
[2] HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN
来源：
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1986年 / 133卷 / 08期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：C314 / C314
页数：1
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