基于专利存续期的中国专利质量演变研究

随着中国创新活动日新月异的发展,专利质量的变化趋势越来越受到研究人员的关注。使用中国发明专利每年发明专利的授权率和存续期表征专利质量,并且对发明专利的存续期使用Cox-PH模型进行回归,并以此分析了中国专利质量的演变趋势。研究结果显示,中国发明专利在授权率和存续期方面与国外存在一定差距,但与其他学者不同的是,无论是整体还是细分行业领域,中国发明专利的授权率在1985—1992年期间持续下降,之后在1993—2000年段显著上升,2001—2013年期间再次显著上升后趋于稳定;存续期则在1985—1992年期间呈现缩短趋势,但缩短力度在减小,之后在1993—2011年均呈现逐年延长趋势。尤其中国的电子工程领域在存续期上进步速度显著快于国外,以上均可证明中国专利质量在逐年提高。