HOT-DIPPED METAL FILMS AS EPITAXIAL SUBSTRATES FOR LARGE SCALE PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICES.

被引：0

作者：

Anon

机构：

来源：

Industrial Heating | 1985年 / 52卷 / 08期

关键词：

EPITAXIAL SUBSTRATES - EPITAXY - HOT-DIPPED METAL FILMS - MICROCRYSTALLINE FILMS;

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

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