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Atomic and electronic structure of the (2 3 × 2 3) R30° strained Sn reconstruction on Ge/Si(1 1 1)
被引:0
|作者:
Srour, W.
[1
,2
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Tejeda, A.
[3
]
Stoffel, M.
[1
]
Abuín, M.
[4
]
Fagot-Revurat, Y.
[1
]
Fèvre, P. Le
[2
]
Taleb-Ibrahimi, A.
[5
]
Malterre, D.
[1
]
机构:
[1] Université de Lorraine, UMR CNRS 7198, Institut Jean Lamour, BP 70239, Vandoeuvre-lès-Nancy,F-54506, France
[2] Synchrotron SOLEIL, L'Orme des Merisiers, Saint-Aubin, Gif sur Yvette,91192, France
[3] Laboratoire de Physique des Solides, Université Paris-Sud, UMR 8502, Orsay,F-91405, France
[4] Dto. de Física de Materiales, Universidad Complutense de Madrid, Madrid,28040, Spain
[5] UR1 CNRS/Synchrotron SOLEIL, Saint-Aubin, Gif sur Yvette,91192, France
关键词:
18;
D O I:
暂无
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