ANNEALING OF DEFECTS IN QUENCHED N-TYPE SILICON IRRADIATED WITH FAST ELECTRONS

被引:0
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作者
BEREZINA, GM
KORSHUNOV, FP
RAINES, LY
机构
关键词
D O I
暂无
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
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