DENSITY-FUNCTIONAL APPROACH TO METAL-INSULATOR-TRANSITION IN DOPED SEMICONDUCTORS

被引:44
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作者
GHAZALI, A
LEROUXHUGON, P
机构
关键词
D O I
10.1103/PhysRevLett.41.1569
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
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页码:1569 / 1572
页数:4
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