PRECIPITATION OF BORON ATOMS IMPLANTED IN SILICON AS DETECTED BY CHANNELING ANALYSIS

被引：6

作者：

AKASAKA, Y ^{[1
]}

HORIE, K ^{[1
]}

机构：

[1] MITSUBISHI ELECT CORP,CENT RES LAB,MINAMISHIMIZU,HYOGO,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1662769

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：3372 / 3374

页数：3

共 8 条

AKASAKA, Y ;

HORIE, K ;

YONEDA, K ;

SAKURAI, T ;

NISHI, H ;

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