TEMPERATURE CHANGES IN THIN METAL FILMS DURING VAPOR DEPOSITION

被引：60
作者：
BELOUS, MV
WAYMAN, CM
机构：
来源：
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1967年 / 38卷 / 13期
关键词：
D O I：
10.1063/1.1709287
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：5119 / &
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