PHOTOLITHOGRAPHY FOR DRY METAL ETCH

被引：0
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作者：
HOLLAND, SP
WEBER, SE
机构：
[1] IBM CORP,DIV GEN TECHNOL,ESSEX JUNCTION,VT 05452
[2] IBM,DIV N CENT MKT,S BURLINGTON,VT 05451
来源：
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1987年 / 134卷 / 8B期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：C436 / C436
页数：1
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