APPLICATION OF SECONDARY IONIC EMISSION TO STUDY OF OXIDE-FILMS FORMED ON NI-CR 80-20 ALLOY BY OXIDATION IN PURE OXYGEN BETWEEN 800 AND 1200DEGREESC

被引:0
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作者
PIVIN, JC [1 ]
ROQUESCARMES, C [1 ]
LACOMBE, P [1 ]
机构
[1] UNIV PARIS 11,MET PHYS LAB,F-91405 ORSAY,FRANCE
来源
MEMOIRES SCIENTIFIQUES DE LA REVUE DE METALLURGIE | 1977年 / 74卷 / 03期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
TF [冶金工业];
学科分类号
0806 ;
摘要
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页码:161 / 175
页数:15
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