NUMERICAL-ANALYSIS OF ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY SYSTEMS .4. COMPUTERIZED OPTIMIZATION OF THE ELECTRON-OPTICAL PERFORMANCE OF ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY SYSTEMS USING THE DAMPED LEAST-SQUARES METHOD

被引：0
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作者：
CHU, HC
MUNRO, E
机构：
来源：
OPTIK | 1982年 / 61卷 / 03期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ; 0803 ;
摘要：
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页数：24
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