ELECTRON BEAM EXPOSURE OF PHOTORESISTS

被引：37

作者：

THORNLEY, RF

SUN, T

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1965年 / 112卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2423385

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：1151 / &

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共 1 条

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BLACK, RM ;

REYNOLDS, EH .

PROCEEDINGS OF THE INSTITUTION OF ELECTRICAL ENGINEERS-LONDON, 1965, 112 (06) :1226-&