AMORPHOUS METAL-SEMICONDUCTOR CONTACTS FOR HIGH-TEMPERATURE ELECTRONICS .2. THERMAL-STABILITY OF SCHOTTKY-BARRIER CHARACTERISTICS

被引:6
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作者
WICKENDEN, DK
SISSON, MJ
TODD, AG
KELLY, MJ
机构
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(84)90180-1
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
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页码:515 / 518
页数:4
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