New insight into tantalum pentoxide metal-insulator-metal (MIM) capacitors:: Leakage current modeling, self-heating, reliability assessment and industrial applications

被引：2

作者：

Martinez, V. ^{[1
,2
]}

Besset, C. ^{[1
]}

Monsieur, F. ^{[1
]}

Ney, D. ^{[1
]}

Montes, L. ^{[2
]}

Ghibaudo, G. ^{[2
]}

机构：

[1] STMicroelectronics, 850 Rue Jean Monnet,BP 16, F-38926 Crolles, France

[2] INP Grenoble MINATEC, IMEP LAHC, F-38016 Grenoble 1, France

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/RELPHY.2008.4558891

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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