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FDI技术外溢是否存在“门槛条件”——来自我国高技术产业的面板门限回归分析
被引：53
作者：
余泳泽
机构：
[1] 南京财经大学江苏产业发展研究院
来源：
关键词：
FDI;
技术外溢;
“门槛条件”;
高技术产业;
D O I：
10.13653/j.cnki.jqte.2012.08.001
中图分类号：
F224 [经济数学方法];
F832.6 [汇兑、对外金融关系];
F276.44 [高新技术企业];
学科分类号：
0701 ;
070104 ;
1201 ;
020204 ;
1202 ;
120202 ;
摘要：
本文在已有研究的基础上,认为在FDI技术外溢过程中存在着一定的"门槛条件",并基于"技术势能"假说,利用我国高技术产业数据进行实证检验。实证结果表明,外商投资规模、技术势能与潜在市场规模对FDI技术外溢的影响都具有一定的"门槛条件",只有三者在适度值范围内技术外溢积极而显著,并且与技术外溢存在着倒"U"形曲线关系。随着时间的变化,技术外溢的"门槛条件"有所提高,外溢效应有所降低。
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