直流反应磁控溅射方法制备碳掺杂TiO2薄膜及其可见光活性

被引：19
|
作者：
朱蕾
崔晓莉
沈杰
杨锡良
章壮健
机构：
[1] 复旦大学材料科学系
来源：
物理化学学报 | 2007年 / 11期
关键词：
直流反应磁控溅射法; 碳/钛镶嵌靶; 碳掺杂的二氧化钛薄膜; 光电化学;
D O I：
暂无
中图分类号：
O614.411 [];
学科分类号：
摘要：
室温下通过直流反应磁控溅射的方法,利用碳钛镶嵌靶在Ar/O2气氛中制备了碳掺杂纳米TiO2薄膜,并通过X射线衍射（XRD）、UV-Vis透射光谱以及光电化学的方法对薄膜进行了表征.XRD测试结果表明,靶中碳和钛的面积比小于0.10时,碳掺杂的引入有利于TiO2薄膜的晶格生长,并随靶中碳面积的增加,薄膜的结晶度也相应提高.由透射光谱计算得到的禁带宽度表明,靶中碳和钛的面积比为0.05时,薄膜的禁带宽度由纯TiO2薄膜的3.4 eV减小到3.1 eV.光电测试结果表明,靶中碳和钛的面积比小于0.10时,碳的引入可以提高薄膜的光电响应,面积比为0.10时,可见光下0 V时薄膜的光电流密度为0.069μA·cm-2;但碳和钛的面积比增加到0.16时,测得的薄膜光电响应异常.
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页码：1662 / 1666
页数：5
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