X-FAB开发出0.35微米CMOS技术

被引:0
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作者
机构
关键词
CMOS; X-FAB;
D O I
暂无
中图分类号
TN43 [半导体集成电路(固体电路)];
学科分类号
080903 ; 1401 ;
摘要
德国的 X-FAB 半导体公司最近推出新型处理技术,一种0.35微米混音信号 CMOS SOC 处理技术。该技术已通过量产检验,现已供应用户市场。该技术命名为 XC035LV,具有低电压和非易失存储性能,基于多晶硅 n-well CMOS 处理,包括三个金属层。其性能特色则包括第四金属层、高阻抗聚晶硅电阻、肖特基二极管和嵌入式 EEPROM
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