N+注入Ti/Si3N4的摩擦行为研究

被引：1

作者：

田军

杨晓鸿

陈玉峰

王齐祖

薛群基

机构：

[1] 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放实验室

[2] 兰州大学材料科学系

[3] 中国建筑材料科学研究院技术陶瓷研究所

来源：

关键词：

离子注入，Ti／Si3N4，摩擦学行为，离子束混合;

D O I：

10.14062/j.issn.0454-5648.1998.02.012

中图分类号：

TQ174.758.12 [];

学科分类号：

摘要：

研究了Ｓｉ３Ｎ４陶瓷材料及镀膜Ｔｉ／Ｓｉ３Ｎ４材料当Ｎ＋注入前后的摩擦学行为，考察了样品表面划痕轨迹的ＳＥＭ形貌，结合Ｘ射线衍射，对离子注入改性机理和摩擦学性能进行了探讨．在Ｔｉ和Ｓｉ３Ｎ４界面上离子的混合及形成Ｔｉ２Ｎ相使Ｔｉ膜的附着力增加

引用

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