M{2,3},M{2,4}和M{2,3,4}的有效刻画（英文）

被引：0

作者：

征道生

机构：

[1] 华东师范大学数学系

来源：

华东师范大学学报(自然科学版) | 2016年 / 02期

关键词：

广义逆的有效刻画; 矩阵的奇异值分解; 正交投影矩阵; 映射公式的逆象指数集; 稠密子集;

D O I：

暂无

中图分类号：

O151.21 [矩阵论];

学科分类号：

摘要：

集合A到集合B上的一个一一映射f称为B的一个有效刻画。本文提出的选逆象指标法（SIIIM）给出集A1={α:α=（Is,η）T∈Csn×s}到象集B1={β:β=α（α*α）-1α*,α∈A1}的一个有效刻画公式,并证明了B1是I{2,3}s的稠密子集,且I{2,3}s的每个元素都与B1的某个元素置换相似,利用上述结果,分别建立了I{2,3}和长方阵广义逆矩阵类M{2,3}.的有效刻画公式。再利用等式I{2,3}s=I{2,4}s=I{2,3,4}s,进一步获得了M{2,4},M{2,3,4}的有效刻画公式.算法3.1可用于无重复地计算I{2,3}s的任一个元素.

引用

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