LASER-RECRYSTALLIZED POLYCRYSTALLINE SILICON RESISTORS FOR INTEGRATED CIRCUIT APPLICATIONS.

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作者
Schaber, H.
Cutter, D.
Binder, J.
Obermeier, E.
机构
[1] Siemens AG, Zentralbereich Technik, Otto-Hahn-Ring 6, D-8000 München 83, Germany
[2] Siemens AG, Unternehmensbereich Bauelemente, Balanstr. 73, D-8000 München 80, Germany
[3] Fraunhofer-Institut für Festkörpertechnologie, Paul-Gerhardt-Allee 42, D-8000 München 60, Germany
来源
Journal of Applied Physics | 1983年 / 54卷 / 08期
关键词
D O I
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18
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页码:4633 / 4640
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