Surface oxidation and bubble formation of silicon by oxygen/helium glow discharge

被引：0
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作者：
Miho, S. [1 ]
Yamauchi, Y. [1 ]
Hirohata, Y. [1 ]
Hino, T. [1 ]
Nishikawa, M. [1 ]
机构：
[1] Department of Nuclear Engineering, Faculty of Engineering, Hokkaido University, Kita-13, Nishi-8, Kita-ku, Sapporo 060-8628, Japan
来源：
| 2001年 / Vacuum Society of Japan卷 / 44期
关键词：
Bias voltage - Plasma irradiation - Surface density - Surface oxidation;
D O I：
10.3131/jvsj.44.147
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