CHARGED WALLS IN IMPLANTED LAYERS

被引:3
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作者
KLEMAN, M [1 ]
PUCHALSKA, IB [1 ]
机构
[1] CNRS,MAGNETISME LAB,F-91190 BELLEVUE,FRANCE
关键词
D O I
10.1016/0304-8853(80)90372-8
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:1473 / 1476
页数:4
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