EPITAXIAL FILMS PRODUCED ON GERMANIUM AND SILICON SURFACES BY THE VACUUM DEPOSITION OF SILVER

被引：5
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作者：
OBERLY, JJ
机构：
来源：
SOLID-STATE ELECTRONICS | 1964年 / 7卷 / 09期
关键词：
D O I：
10.1016/0038-1101(64)90054-1
中图分类号：
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ; 0809 ;
摘要：
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页码：677 / &
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