LORENTZ ELECTRON-MICROSCOPIC STUDIES ON MOTION THRESHOLD FIELD OF CROSS-TIE WALLS AND ON BEHAVIOR OF CROSS-TIE WALLS AT INHOMOGENEITIES IN THIN MAGNETIC-FILMS

被引:2
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作者
BURGER, W
机构
来源
关键词
D O I
10.1002/pssa.2210130133
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:313 / &
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