SIMULATION OF 3-DIMENSIONAL POSITIVE PHOTORESIST IMAGES

被引:4
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作者
BAROUCH, E [1 ]
BRADIE, B [1 ]
BABU, SV [1 ]
机构
[1] CLARKSON UNIV,DEPT CHEM ENGN,POTSDAM,NY 13676
关键词
D O I
10.1143/JJAP.28.2624
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:2624 / 2628
页数:5
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