DIRECT PATTERN REPLICATION IN PLASMA DEPOSITED SILICON-NITRIDE FILMS BY 193 NM ARF EXCIMER LASER-INDUCED SUPPRESSION OF ETCHING

被引：3
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作者：
DONNELLY, VM
MUCHA, JA
机构：
来源：
APPLIED PHYSICS LETTERS | 1989年 / 54卷 / 16期
关键词：
D O I：
10.1063/1.101315
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
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页码：1567 / 1569
页数：3
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